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Recht, Steuer, Wirtschaft, Bau, Architektur / Rechtswissenschaften
Julia Karnick liest aus "Man sieht sich"
22.08.2024 um 19:30 Uhr
Patentgesetz
Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
von Georg Benkard
Verlag: C.H. Beck
Reihe: Beck Kurzkommentare Nr. 4
Gebundene Ausgabe
ISBN: 978-3-406-72789-4
Auflage: 12., neubearbeitete Auflage
Erschienen am 29.06.2023
Sprache: Deutsch
Format: 246 mm [H] x 172 mm [B] x 69 mm [T]
Gewicht: 2124 Gramm
Umfang: 2501 Seiten

Preis: 239,00 €
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Klappentext

Zum Werk
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Vorteile auf einen Blick

  • Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
  • Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
  • Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes

Zur Neuauflage
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
Zielgruppe
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.


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